CPL - Chalmers Publication Library
| Utbildning | Forskning | Styrkeområden | Om Chalmers | In English In English Ej inloggad.

Future high-k gate stack materials

Olof Engström (Institutionen för mikroteknologi och nanovetenskap, Fysikalisk elektronik)
Tutorial, ESSDERC 08, Edinburgh, September, 2008 (2008)
[Konferensbidrag, övrigt]


Denna post skapades 2009-01-15.
CPL Pubid: 87429

 

Institutioner (Chalmers)

Institutionen för mikroteknologi och nanovetenskap, Fysikalisk elektronik (2007-2010)

Ämnesområden

Materialfysik med ytfysik

Chalmers infrastruktur