CPL - Chalmers Publication Library
| Utbildning | Forskning | Styrkeområden | Om Chalmers | In English In English Ej inloggad.

High-k dielectrics and metal gates

Olof Engström (Institutionen för mikroteknologi och nanovetenskap, Fysikalisk elektronik)
MIGAS '8, Summer School, Autrans, July 2008 (2008)
[Konferensbidrag, övrigt]


Denna post skapades 2009-01-15.
CPL Pubid: 87427

 

Institutioner (Chalmers)

Institutionen för mikroteknologi och nanovetenskap, Fysikalisk elektronik (2007-2010)

Ämnesområden

Materialfysik med ytfysik

Chalmers infrastruktur