CPL - Chalmers Publication Library
| Utbildning | Forskning | Styrkeområden | Om Chalmers | In English In English Ej inloggad.

A General Weibull Model For Reliability Analysis Under Different Failure Criteria –Application on Anisotropic conductive adhesive joining technology

Johan Liu (Institutionen för mikroteknologi och nanovetenskap, Fotonik) ; Liqiang Cao ; Min Xie ; Thong-Ngee Goh ; Yong Tang
Proceedings of the Polytronik04 p. RT23. (2004)
[Konferensbidrag, refereegranskat]


Denna post skapades 2009-01-13.
CPL Pubid: 85643

 

Institutioner (Chalmers)

Institutionen för mikroteknologi och nanovetenskap, Fotonik

Ämnesområden

Elektroteknik och elektronik

Chalmers infrastruktur