CPL - Chalmers Publication Library
| Utbildning | Forskning | Styrkeområden | Om Chalmers | In English In English Ej inloggad.

TEM Investigation of Alpha Alumina Films Deposited at Low Temperature

Andy N. Cloud ; Sead Canovic (Institutionen för teknisk fysik, Mikroskopi och mikroanalys) ; H. H. Abu-Safe ; Matt Gordon ; Mats Halvarsson (Institutionen för teknisk fysik, Mikroskopi och mikroanalys)
Surface Coatings and Technology Vol. 203 (2008), p. 808-811.
[Artikel, refereegranskad vetenskaplig]


Denna post skapades 2009-01-08.
CPL Pubid: 84078

 

Institutioner (Chalmers)

Institutionen för teknisk fysik, Mikroskopi och mikroanalys (2005-2012)

Ämnesområden

Funktionella material

Chalmers infrastruktur