CPL - Chalmers Publication Library
| Utbildning | Forskning | Styrkeområden | Om Chalmers | In English In English Ej inloggad.

Low temperature oxidation of Cr-alloyed MoSi2

E. Strom ; Yu Cao (Institutionen för material- och tillverkningsteknik, Yt- och mikrostrukturteknik) ; Yiming Yao (Institutionen för material- och tillverkningsteknik, Materialteknologi)
Transactions of Nonferrous Metals Society of China (1003-6326). Vol. 17 (2007), 6, p. 1282-1286.
[Artikel, övrig populärvetenskap]

Cr-alloyed MOSi2 was compared with monolithic MOSi2 with respect to oxidation at 450 degrees C for 456 h. Phases formed on Cr-alloyed MOSi2 after exposure are Cr-2(MoO4)(3), MoO3, and cristobalite NOD according to X-ray diffraction results. Monolithic MOSi2 forms MoO3 and mainly amorphous SiO2. X-ray photoelectron spectroscopy indicates that the main oxidation product on the outermost surface is SiO2 for all studied samples. The samples form a relatively loose oxide but the oxide adherence improves with increasing Cr content. It is indicated that Cr addition can benefit pesting control in MOSi2.

Nyckelord: molybdenum silicides, pesting, oxidation, alloying

Den här publikationen ingår i följande styrkeområden:

Läs mer om Chalmers styrkeområden  

Denna post skapades 2008-11-20. Senast ändrad 2016-02-01.
CPL Pubid: 78439


Institutioner (Chalmers)

Institutionen för material- och tillverkningsteknik, Yt- och mikrostrukturteknik (2005-2017)
Institutionen för material- och tillverkningsteknik, Materialteknologi (2005-2017)



Chalmers infrastruktur