CPL - Chalmers Publication Library
| Utbildning | Forskning | Styrkeområden | Om Chalmers | In English In English Ej inloggad.

High-k-oxide/silicon interfaces characterized by capacitance frequency spectroscopy

Bahman Raeissi (Institutionen för mikroteknologi och nanovetenskap) ; Johan Piscator (Institutionen för mikroteknologi och nanovetenskap) ; Olof Engström (Institutionen för mikroteknologi och nanovetenskap) ; S. Hall ; O Buiu ; M.C. Lemme ; H.D.B. Gottlob ; P.K- Hurley ; K. Cherkaoui ; H.J. Osten
Proc. ESSDERC 2007, p 283 (2007)
[Konferensbidrag, refereegranskat]


Denna post skapades 2008-01-17.
CPL Pubid: 67383

 

Institutioner (Chalmers)

Institutionen för mikroteknologi och nanovetenskap

Ämnesområden

Teknisk fysik

Chalmers infrastruktur