CPL - Chalmers Publication Library
| Utbildning | Forskning | Styrkeområden | Om Chalmers | In English In English Ej inloggad.

Novel high-k/metal gate materials

Olof Engström (Institutionen för mikroteknologi och nanovetenskap) ; P.K. Hurley ; O Buiu ; M.C. Lemme
SiNANO Worksshop at ESSDERC 07, Munich (2007)
[Konferensbidrag, refereegranskat]


Denna post skapades 2008-01-17.
CPL Pubid: 67378

 

Institutioner (Chalmers)

Institutionen för mikroteknologi och nanovetenskap

Ämnesområden

Teknisk fysik

Chalmers infrastruktur