CPL - Chalmers Publication Library
| Utbildning | Forskning | Styrkeområden | Om Chalmers | In English In English Ej inloggad.

Hole-Mask Colloidal Lithography

Hans Fredriksson (Institutionen för teknisk fysik, Kemisk fysik) ; Yury Alaverdyan (Institutionen för teknisk fysik, Bionanofotonik) ; Alexandre Dmitriev (Institutionen för teknisk fysik, Kemisk fysik) ; Christoph Langhammer (Institutionen för teknisk fysik, Kemisk fysik) ; Duncan S. Sutherland (Institutionen för teknisk fysik, Kemisk fysik) ; Michael Zäch (Institutionen för teknisk fysik, Kemisk fysik) ; Bengt Kasemo (Institutionen för teknisk fysik, Kemisk fysik)
Advanced Materials Vol. 19 (2007), p. 4297-4302.
[Artikel, refereegranskad vetenskaplig]


Denna post skapades 2007-12-07.
CPL Pubid: 62675

 

Institutioner (Chalmers)

Institutionen för teknisk fysik, Kemisk fysik (1900-2015)
Institutionen för teknisk fysik, Bionanofotonik (2007-2015)

Ämnesområden

Ytor och mellanytor

Chalmers infrastruktur

Relaterade publikationer

Denna publikation ingår i:


Nanostructured carbon materials prepared by hole-mask colloidal lithography


Nanoparticle Plasmons in Classic and Novel Materials - Fundamentals and Hydrogen Sensing


Nanostructures of Graphite and Amorphous Carbon - Fabrication and Properties