CPL - Chalmers Publication Library
| Utbildning | Forskning | Styrkeområden | Om Chalmers | In English In English Ej inloggad.

Plasma-enhanced chemical vapour deposition growth of carbon nanotubes on different metal underlayers

Mohammad Kabir (Institutionen för mikroteknologi och nanovetenskap, Fasta tillståndets elektronik) ; Raluca Elena Morjan (Institutionen för experimentell fysik, Atomfysik) ; Oleg Nerushev ; Per Lundgren (Institutionen för mikroteknologi och nanovetenskap, Fasta tillståndets elektronik) ; Stefan Bengtsson (Institutionen för mikroteknologi och nanovetenskap) ; Peter Enoksson (Institutionen för mikroteknologi och nanovetenskap) ; Eleanor E B Campbell
Nanotechnology (0957-4484 ). Vol. 16 (2005), p. 458-466.
[Artikel, refereegranskad vetenskaplig]

One important requirement for future applications of carbon nanotube electronic devices is the ability to controllably grow carbon nanotubes on metal electrodes. Here we show that it is possible to grow small diameter (<10 nm) vertically aligned carbon nanotubes on different metal underlayers using plasma-enhanced chemical vapour deposition. A crucial component is the insertion of a thin silicon layer between the metal and the catalyst particle. The electrical integrity of the metal electrode layer after plasma treatment and the quality of the metals as interconnects are also investigated.

Nyckelord: carbon nanotubes nanofibres



Denna post skapades 2007-10-20. Senast ändrad 2015-12-17.
CPL Pubid: 55810

 

Läs direkt!


Länk till annan sajt (kan kräva inloggning)


Institutioner (Chalmers)

Institutionen för mikroteknologi och nanovetenskap, Fasta tillståndets elektronik (2003-2006)
Institutionen för experimentell fysik, Atomfysik (1997-2005)
Institutionen för fysik (GU) (GU)
Institutionen för mikroteknologi och nanovetenskap

Ämnesområden

Den kondenserade materiens fysik

Chalmers infrastruktur