CPL - Chalmers Publication Library
| Utbildning | Forskning | Styrkeområden | Om Chalmers | In English In English Ej inloggad.

High growth rates and wall decoration of carbon nanotubes grown by plasma-enhanced chemical vapour deposition

Raluca Elena Morjan (Institutionen för experimentell fysik, Atomfysik) ; V. Maltsev ; Oleg Nerushev ; Yiming Yao (Institutionen för experimentell fysik) ; Lena K. L. Falk (Institutionen för experimentell fysik, Mikroskopi och mikroanalys) ; Eleanor E B Campbell
Chemical Physics Letters (0009-2614). Vol. 383/4 (2004), p. 385-390.
[Artikel, övrig populärvetenskap]

DC plasma-enhanced chemical vapour deposition (PECVD) was used to grow films of aligned carbon nanotubes on a silicon wafer using Fe as catalyst and a C2H2/H2 gas mixture. The films were of high quality and showed an exceptionally high growth rate compared with other plasma growth techniques. For long growth times, the upper parts of the nanotubes developed additional outer graphite flakes. The onset of the ‘tube decoration’ correlates with a decrease in linear growth rate and can be related to the gradient of plasma parameters in the cathode sheath.

Nyckelord: carbon nanotubes

Den här publikationen ingår i följande styrkeområden:

Läs mer om Chalmers styrkeområden  

Denna post skapades 2007-10-15. Senast ändrad 2015-11-05.
CPL Pubid: 54055


Läs direkt!

Länk till annan sajt (kan kräva inloggning)

Institutioner (Chalmers)

Institutionen för experimentell fysik, Atomfysik (1997-2005)
Institutionen för fysik (GU) (GU)
Institutionen för experimentell fysik (1900-2005)
Institutionen för experimentell fysik, Mikroskopi och mikroanalys (1997-2004)


Nanovetenskap och nanoteknik
Funktionella material
Övrig teknisk materialvetenskap

Chalmers infrastruktur