CPL - Chalmers Publication Library
| Utbildning | Forskning | Styrkeområden | Om Chalmers | In English In English Ej inloggad.

Extremely small hole capture cross sections in HfO2/ HfxSiyOz/p-Si structures

M. Y. A. Yousif (Institutionen för mikroteknologi och nanovetenskap, Fasta tillståndets elektronik) ; Mikael Johansson (Institutionen för mikroteknologi och nanovetenskap, Fasta tillståndets elektronik) ; Olof Engström (Institutionen för mikroteknologi och nanovetenskap, Fasta tillståndets elektronik)
Applied Physics Letters Vol. 90 (2007), p. 203506.
[Artikel, refereegranskad vetenskaplig]


Denna post skapades 2007-05-22.
CPL Pubid: 41985

 

Institutioner (Chalmers)

Institutionen för mikroteknologi och nanovetenskap, Fasta tillståndets elektronik (2003-2006)

Ämnesområden

Materialteknik

Chalmers infrastruktur