CPL - Chalmers Publication Library
| Utbildning | Forskning | Styrkeområden | Om Chalmers | In English In English Ej inloggad.

TEM investigation of the base oxide formed on FeCrAl at 900°C in dry O2 and O2 with 40% H2O

Fang Liu (Institutionen för teknisk fysik, Mikroskopi och mikroanalys) ; Helena Josefsson (Institutionen för kemi- och bioteknik, Oorganisk miljökemi) ; Jan-Erik Svensson (Institutionen för kemi- och bioteknik, Oorganisk miljökemi) ; Lars-Gunnar Johansson (Institutionen för kemi- och bioteknik, Oorganisk miljökemi) ; Mats Halvarsson (Institutionen för teknisk fysik, Mikroskopi och mikroanalys)
Materials at High Temperatures Vol. 22 (2005), 3-4, p. 521 - 526.
[Artikel, refereegranskad vetenskaplig]


Denna post skapades 2007-04-12. Senast ändrad 2017-10-03.
CPL Pubid: 40489

 

Institutioner (Chalmers)

Institutionen för teknisk fysik, Mikroskopi och mikroanalys (2005-2012)
Institutionen för kemi- och bioteknik, Oorganisk miljökemi (2005-2014)

Ämnesområden

Materialteknik
Övrig annan teknik

Chalmers infrastruktur