CPL - Chalmers Publication Library
| Utbildning | Forskning | Styrkeområden | Om Chalmers | In English In English Ej inloggad.

The effect of interfacial transition layer on performance of thin film ferroelectric capacitors

Andrei Vorobiev (Institutionen för mikroteknologi och nanovetenskap, Mikrovågs- och terahertzteknologi) ; John Berge (Institutionen för mikroteknologi och nanovetenskap, Mikrovågs- och terahertzteknologi) ; Spartak Gevorgian (Institutionen för mikroteknologi och nanovetenskap, Mikrovågs- och terahertzteknologi)
Electroceramics X, International Conference on Electroceramics, Toledo, Spain, 18-22 June, 2006 (2006)
[Konferensbidrag, refereegranskat]


Denna post skapades 2007-03-08. Senast ändrad 2014-09-02.
CPL Pubid: 25829

 

Institutioner (Chalmers)

Institutionen för mikroteknologi och nanovetenskap, Mikrovågs- och terahertzteknologi (2006-2007)

Ämnesområden

Funktionella material

Chalmers infrastruktur