CPL - Chalmers Publication Library
| Utbildning | Forskning | Styrkeområden | Om Chalmers | In English In English Ej inloggad.

Effect of compositional interlayers on the vertical electrical conductivity of Si-doped AlN/GaN distributed Bragg reflectors grown on SiC''

Seyed Ehsan Hashemi (Institutionen för mikroteknologi och nanovetenskap, Fotonik) ; Filip Hjort (Institutionen för mikroteknologi och nanovetenskap, Fotonik) ; Martin Stattin (Institutionen för mikroteknologi och nanovetenskap, Fotonik) ; Tommy Ive (Institutionen för mikroteknologi och nanovetenskap, Fotonik) ; Olof Bäcke (Institutionen för fysik, Materialens mikrostruktur (Chalmers)) ; Antiope Lotsari (Institutionen för fysik, Materialens mikrostruktur (Chalmers) ; Institutionen för kemi och kemiteknik) ; Mats Halvarsson (Institutionen för fysik, Materialens mikrostruktur (Chalmers)) ; David Adolph (Institutionen för mikroteknologi och nanovetenskap, Mikrovågselektronik) ; Vincent Desmaris (Institutionen för rymd- och geovetenskap, Avancerad mottagarutveckling) ; Denis Meledin (Institutionen för rymd- och geovetenskap, Avancerad mottagarutveckling) ; Åsa Haglund (Institutionen för mikroteknologi och nanovetenskap, Fotonik)
Applied Physics Express (1882-0778). Vol. 10 (2017), 5, p. 055501.
[Artikel, refereegranskad vetenskaplig]

We have investigated the effect of strain-compensating interlayers on the vertical electrical conductivity of Si-doped AlN/GaN distributed Bragg reflectors (DBRs). Samples with 10.5 mirror pairs were grown through plasma-assisted molecular beam epitaxy on SiC. Room-temperature current–voltage characteristics were measured vertically in mesas through 8 of the 10.5 pairs. The sample with no interlayers yields a mean specific series resistance of 0.044 Ω cm2 at low current densities, while three samples with 5/5-Å-thick, 2/2-nm-thick, and graded interlayers have resistivities between 0.16 and 0.34 Ω cm2. Thus, interlayers impair vertical current transport, and they must be designed carefully when developing conductive DBRs.



Den här publikationen ingår i följande styrkeområden:

Läs mer om Chalmers styrkeområden  

Denna post skapades 2017-05-02. Senast ändrad 2017-05-05.
CPL Pubid: 249059

 

Läs direkt!


Länk till annan sajt (kan kräva inloggning)