CPL - Chalmers Publication Library
| Utbildning | Forskning | Styrkeområden | Om Chalmers | In English In English Ej inloggad.

Large area and uniform monolayer graphene CVD growth on oxidized copper in a cold wall reactor

Wei Mu (Institutionen för mikroteknologi och nanovetenskap, Elektronikmaterial och system ) ; Yifeng Fu (Institutionen för mikroteknologi och nanovetenskap, Elektronikmaterial och system ) ; Shuangxi Sun (Institutionen för mikroteknologi och nanovetenskap, Elektronikmaterial och system ) ; Michael Edwards (Institutionen för mikroteknologi och nanovetenskap, Elektronikmaterial och system ) ; Lilei Ye ; Kjell Jeppson (Institutionen för mikroteknologi och nanovetenskap, Elektronikmaterial och system ) ; Johan Liu (Institutionen för mikroteknologi och nanovetenskap, Elektronikmaterial och system )
IMAPS Nordic Annual Conference 2016 Proceedings p. 22. (2016)
[Konferensbidrag, refereegranskat]


Denna post skapades 2017-02-21. Senast ändrad 2017-04-28.
CPL Pubid: 248248