CPL - Chalmers Publication Library
| Utbildning | Forskning | Styrkeområden | Om Chalmers | In English In English Ej inloggad.

X-RAY PHOTOELECTRON SPECTROSCOPY FOR LAYER-BY-LAYER PHASE ANALYSIS OF NbN THIN FILMS

МЕТОД РЕНТГЕНОВСКОЙ ФОТОЭЛЕКТРОННОЙ СПЕКТРОСКОПИИ ДЛЯ ПОСЛОЙНОГО ФАЗОВОГО АНАЛИЗА ТОНКИХ ПЛЕНОК NbN

Alexander Lubenchenko ; Alexander Batrakov ; Alexey Pavolotsky (Institutionen för rymd- och geovetenskap) ; Sascha Krause (Institutionen för rymd- och geovetenskap, Avancerad mottagarutveckling) ; Irina Shurkaeva
25th Spectroscopy Meeting p. 415. (2016)
[Konferensbidrag, refereegranskat]

This paper studied the chemical and phase composition of NbN thin films by x-ray photoelectron spectroscopy (XPS). Determined the relative concentrations of (O, Nb, N, C, Si) and carried out layer-by-layer phase analysis of the films before sputtering and after each cycle of sputtering. Before spraying in the nitride film detected two different phase states niobium nitride, NbN, and presumably this Nb5N6. Analysis of the Nb 3d and C 1s lines allowed to reveal in addition to these phases of niobium nitride, various oxides of niobium (Nb2O5, NbO2, Nb2O3, NbO) and NbNOx

Nyckelord: XPS, thin films, spectral lines, chemical composition



Den här publikationen ingår i följande styrkeområden:

Läs mer om Chalmers styrkeområden  

Denna post skapades 2016-12-13. Senast ändrad 2016-12-13.
CPL Pubid: 246090

 

Läs direkt!

Lokal fulltext (fritt tillgänglig)


Institutioner (Chalmers)

Institutionen för rymd- och geovetenskap (2010-2017)
Institutionen för rymd- och geovetenskap, Avancerad mottagarutveckling (2010-2017)

Ämnesområden

Materialvetenskap
Nanovetenskap och nanoteknik
Ytor och mellanytor
Elektronstruktur
Supraledning
Materialteknik
Nanoteknik

Chalmers infrastruktur