CPL - Chalmers Publication Library
| Utbildning | Forskning | Styrkeområden | Om Chalmers | In English In English Ej inloggad.

Fabrication of graphene quantum hall resistance standard in a cryogen-Table-Top system

Hans He (Institutionen för mikroteknologi och nanovetenskap, Kvantkomponentfysik) ; Tjbm Janssen ; S. Rozhko ; A. Tzalenchuk ; Samuel Lara-Avila (Institutionen för mikroteknologi och nanovetenskap, Kvantkomponentfysik) ; R. Yakimova ; Sergey Kubatkin (Institutionen för mikroteknologi och nanovetenskap, Kvantkomponentfysik)
2016 Conference on Precision Electromagnetic Measurements, CPEM 2016; The Westin OttawaOttawa; Canada; 10-15 July 2016 p. Art no 7540516. (2016)
[Konferensbidrag, refereegranskat]

We have demonstrated quantum Hall resistance measurements with metrological accuracy in a relatively easy to use and compact cryogen-free system operating at a temperature of around 3.8 K and magnetic field below 5 T. This advance in technology is due to the unique properties of epitaxial graphene on silicon carbide (SiC) which lifts the stringent requirements for quantum hall effect seen in conventional semiconductors. This paper presents the processes involved in fabrication and characterization of metrologically viable epitaxial graphene samples.

Nyckelord: Epitaxial layers; Graphene; measurement standards; microfabrication; quantum hall effect

Denna post skapades 2016-11-25. Senast ändrad 2016-12-19.
CPL Pubid: 245649


Läs direkt!

Länk till annan sajt (kan kräva inloggning)

Institutioner (Chalmers)

Institutionen för mikroteknologi och nanovetenskap, Kvantkomponentfysik


Elektroteknik och elektronik

Chalmers infrastruktur