CPL - Chalmers Publication Library
| Utbildning | Forskning | Styrkeområden | Om Chalmers | In English In English Ej inloggad.

Fabrication and characterization of reactively sputtered TaN thin film resistors for millimeter wave applications

Anders Mellberg (Institutionen för mikroteknologi och nanovetenskap ; Institutionen för mikroteknologi och nanovetenskap, Mikrovågselektronik) ; Samuel P. Nicols (Institutionen för mikroteknologi och nanovetenskap ; Institutionen för mikroteknologi och nanovetenskap, Mikrovågselektronik) ; Niklas Rorsman (Institutionen för mikroteknologi och nanovetenskap ; Institutionen för mikroteknologi och nanovetenskap, Mikrovågselektronik) ; Herbert Zirath (Institutionen för mikroteknologi och nanovetenskap ; Institutionen för mikroteknologi och nanovetenskap, Mikrovågselektronik)
Electrochemical and Solid State Letters Vol. 7 (2004), 11, p. G261-3.
[Artikel, refereegranskad vetenskaplig]

Nyckelord: electrical resistivity, microstrip lines, MIMIC, S-parameters, sputter deposition, tantalum compounds, thin film resistors



Denna post skapades 2006-09-12. Senast ändrad 2015-08-10.
CPL Pubid: 2456