CPL - Chalmers Publication Library
| Utbildning | Forskning | Styrkeområden | Om Chalmers | In English In English Ej inloggad.

Dynamic laser speckle as a detrimental phenomenon in optical projection lithography

Christer Rydberg (Institutionen för mikroteknologi och nanovetenskap, Fotonik) ; Jörgen Bengtsson (Institutionen för mikroteknologi och nanovetenskap, Fotonik) ; Torbjörn Sandström
J. Microlithography, Microfabrication and Microsystems (JM3) (1537-1646). Vol. 5 (2006), 3, p. 33004-1-8.
[Artikel, refereegranskad vetenskaplig]

Nyckelord: dynamic laser speckle, optical projection lithography, spectral linewidth, excimer lasers, dose control, illumination conditions, line edge roughness, partially coherent optical field, illuminator intensity distribution, microlens arrays



Denna post skapades 2006-12-12.
CPL Pubid: 24300

 

Institutioner (Chalmers)

Institutionen för mikroteknologi och nanovetenskap, Fotonik

Ämnesområden

Optik
Fotonik

Chalmers infrastruktur

Relaterade publikationer

Denna publikation ingår i:


Statistical optics and optical elements for microtechnologies: Partial coherence, lithography and microlenses