CPL - Chalmers Publication Library
| Utbildning | Forskning | Styrkeområden | Om Chalmers | In English In English Ej inloggad.

Substrate-dependent resistance decrease of graphene by ultraviolet-ozone charge doping

Lihui Liu (Institutionen för mikroteknologi och nanovetenskap, Kvantkomponentfysik) ; Z. Cao ; W. Wang ; Ergang Wang (Institutionen för kemi och kemiteknik, Polymerteknologi) ; Yu Cao (Institutionen för material- och tillverkningsteknik, Yt- och mikrostrukturteknik) ; Zhaoyao Zhan (Institutionen för mikroteknologi och nanovetenskap, Kvantkomponentfysik)
RSC Advances Vol. 6 (2016), 67, p. 62091-62098.
[Artikel, refereegranskad vetenskaplig]

© 2016 The Royal Society of Chemistry.Large sheet resistance is the critical problem of graphene for application in electronic and optoelectronic devices as transparent electrodes. Ultraviolet/ozone (UVO) treatment is a convenient, highly effective, vacuum process and post-clean free method. This paper reveals that the effect of UVO treatment on the resistance of graphene is substrate dependent, which means that the band gap and photogenerated charge carriers of the substrates under UV illumination play a key role in the doping effect. The resistance of graphene can be decreased by as much as 80% on F8BT, GaN and PTFE substrates, by 70% on PMMA substrate, and by 50% on paraffin and glass substrates. Large band gap substrates (>hν) will induce a p-doping effect, while small band gap substrates (

Den här publikationen ingår i följande styrkeområden:

Läs mer om Chalmers styrkeområden  

Denna post skapades 2016-08-19. Senast ändrad 2017-08-15.
CPL Pubid: 240495


Läs direkt!

Länk till annan sajt (kan kräva inloggning)

Institutioner (Chalmers)

Institutionen för mikroteknologi och nanovetenskap, Kvantkomponentfysik
Institutionen för kemi och kemiteknik, Polymerteknologi
Institutionen för material- och tillverkningsteknik, Yt- och mikrostrukturteknik (2005-2017)


Nanovetenskap och nanoteknik

Chalmers infrastruktur