CPL - Chalmers Publication Library
| Utbildning | Forskning | Styrkeområden | Om Chalmers | In English In English Ej inloggad.

On Skin Effect in On-Chip Interconnects

Daniel Andersson (Institutionen för datorteknik, Integrerade elektroniksystem) ; Lars Svensson (Institutionen för datorteknik, Integrerade elektroniksystem) ; Per Larsson-Edefors (Institutionen för datorteknik, Integrerade elektroniksystem)
Intl Workshop on Power and Timing Modeling, Optimization and Simulation (PATMOS) p. 463-470. (2004)
[Konferensbidrag, refereegranskat]

We investigate the influence of skin effect on the propagation delays of on-chip interconnects. For long wires, designed in the LC regime, on the top metal layer in a contemporary process, we find that the skin effect causes an extra delay by 10%. The impact of the skin effect on delay is furthermore rapidly increasing with increased interconnect width.

Denna post skapades 2006-09-12. Senast ändrad 2016-09-14.
CPL Pubid: 2300


Läs direkt!

Länk till annan sajt (kan kräva inloggning)

Institutioner (Chalmers)

Institutionen för datorteknik, Integrerade elektroniksystem (2002-2004)


Information Technology

Chalmers infrastruktur