CPL - Chalmers Publication Library
| Utbildning | Forskning | Styrkeområden | Om Chalmers | In English In English Ej inloggad.

Direct observation of the thickness distribution of ultra thin AlOx barriers in Al/AlOx/Al Josephson junctions

Lunjie Zeng (Institutionen för teknisk fysik, Eva Olsson Group ) ; Samira Mousavi Nik (Institutionen för teknisk fysik, Eva Olsson Group ) ; Tine Greibe (Institutionen för mikroteknologi och nanovetenskap, Kvantkomponentfysik) ; Philip Krantz (Institutionen för mikroteknologi och nanovetenskap, Kvantkomponentfysik) ; Christopher Wilson (Institutionen för mikroteknologi och nanovetenskap, Kvantkomponentfysik) ; Per Delsing (Institutionen för mikroteknologi och nanovetenskap, Kvantkomponentfysik) ; Eva Olsson (Institutionen för teknisk fysik, Eva Olsson Group )
Journal of Physics D: Applied Physics (0022-3727). Vol. 48 (2015), 39, p. 395308.
[Artikel, refereegranskad vetenskaplig]

We have directly measured the thickness distribution of the tunnel barriers in state-of-the-art Al/AlOx/Al tunnel junctions. From the distribution we can conclude that less than 10% of the junction area dominates the electron tunnelling. The barriers have been studied by transmission electron microscopy, specifically using atomic resolution annular dark field (ADF) scanning transmission electron microscopy (STEM) imaging. The direct observation of the local barrier thickness shows a Gaussian distribution of the barrier thickness variation along the junction, from ~1 to ~2nm. We have investigated how the thickness distribution varies with oxygen pressure (Po) and oxidation time (to) and we find, in agreement with resistance measurements, that an increased to has a larger impact on barrier thickness and its uniformity compared to an increased Po.

Nyckelord: Aluminum, Josephson junctions, TEM, Tunnel barriers



Den här publikationen ingår i följande styrkeområden:

Läs mer om Chalmers styrkeområden  

Denna post skapades 2015-09-23. Senast ändrad 2017-10-03.
CPL Pubid: 223104

 

Läs direkt!

Lokal fulltext (fritt tillgänglig)

Länk till annan sajt (kan kräva inloggning)


Institutioner (Chalmers)

Institutionen för teknisk fysik, Eva Olsson Group (2012-2015)
Institutionen för mikroteknologi och nanovetenskap, Kvantkomponentfysik

Ämnesområden

Nanovetenskap och nanoteknik
Supraledning
Nanoteknik

Chalmers infrastruktur

Relaterade publikationer

Denna publikation ingår i:


The Josephson parametric oscillator - From microscopic studies to single-shot qubit readout