CPL - Chalmers Publication Library
| Utbildning | Forskning | Styrkeområden | Om Chalmers | In English In English Ej inloggad.

The Possibility of Investigating the Influence of Surface Contamination on Oxidation by Using Electron and Ion Microscopy

Fang Liu (Institutionen för teknisk fysik, Mikroskopi och mikroanalys) ; Helena Josefsson (Institutionen för kemi- och bioteknik, Oorganisk miljökemi) ; Mats Halvarsson (Institutionen för teknisk fysik, Mikroskopi och mikroanalys)
The 16th International Microscopy Congress (IMC16), September 3-8, 2006, Sapporo, Japan, H. Ichinose and T. Sasaki (eds) (2006)
[Konferensbidrag, refereegranskat]


Denna post skapades 2015-06-02.
CPL Pubid: 217933

 

Institutioner (Chalmers)

Institutionen för teknisk fysik, Mikroskopi och mikroanalys (2005-2012)
Institutionen för kemi- och bioteknik, Oorganisk miljökemi (2005-2014)

Ämnesområden

Innovation och entreprenörskap (nyttiggörande)
Övrig teknisk materialvetenskap

Chalmers infrastruktur