CPL - Chalmers Publication Library
| Utbildning | Forskning | Styrkeområden | Om Chalmers | In English In English Ej inloggad.

Characterization of Interface Defects

P.K. Hurley ; Olof Engström (Institutionen för mikroteknologi och nanovetenskap, Mikrovågselektronik) ; D. Bauza ; G. Ghibaudo
Nanoscale CMOS (ed. Balestra) p. 545-573. (2010)
[Kapitel]

Nyckelord: C-V response, Charge pumping, Interface defect, LF noise, Low frequency noise



Denna post skapades 2015-05-05.
CPL Pubid: 216417

 

Läs direkt!


Länk till annan sajt (kan kräva inloggning)


Institutioner (Chalmers)

Institutionen för mikroteknologi och nanovetenskap, Mikrovågselektronik

Ämnesområden

Elektroteknik och elektronik

Chalmers infrastruktur