CPL - Chalmers Publication Library
| Utbildning | Forskning | Styrkeområden | Om Chalmers | In English In English Ej inloggad.

Growth mechanism of graphene on platinum: Surface catalysis and carbon segregation

Jie Sun (Institutionen för mikroteknologi och nanovetenskap, Kvantkomponentfysik) ; Youngwoo Nam (Institutionen för mikroteknologi och nanovetenskap, Kvantkomponentfysik) ; Niclas Lindvall (Institutionen för mikroteknologi och nanovetenskap, Kvantkomponentfysik) ; M. T. Cole ; K. B. K. Teo ; Y. W. Park ; Avgust Yurgens (Institutionen för mikroteknologi och nanovetenskap, Kvantkomponentfysik)
Applied Physics Letters (0003-6951). Vol. 104 (2014), 15,
[Artikel, refereegranskad vetenskaplig]

A model of the graphene growth mechanism of chemical vapor deposition on platinum is proposed and verified by experiments. Surface catalysis and carbon segregation occur, respectively, at high and low temperatures in the process, representing the so-called balance and segregation regimes. Catalysis leads to self-limiting formation of large area monolayer graphene, whereas segregation results in multilayers, which evidently "grow from below." By controlling kinetic factors, dominantly monolayer graphene whose high quality has been confirmed by quantum Hall measurement can be deposited on platinum with hydrogen-rich environment, quench cooling, tiny but continuous methane flow and about 1000 degrees C growth temperature. (C) 2014 AIP Publishing LLC.

Nyckelord: CHEMICAL-VAPOR-DEPOSITION, SOLUBILITY, LELLAN RB, 1969, SCRIPTA METALLURGICA, V3, P389



Denna post skapades 2014-06-23. Senast ändrad 2014-08-19.
CPL Pubid: 199474

 

Läs direkt!

Lokal fulltext (fritt tillgänglig)

Länk till annan sajt (kan kräva inloggning)


Institutioner (Chalmers)

Institutionen för mikroteknologi och nanovetenskap, Kvantkomponentfysik

Ämnesområden

Fysik

Chalmers infrastruktur