CPL - Chalmers Publication Library
| Utbildning | Forskning | Styrkeområden | Om Chalmers | In English In English Ej inloggad.

Nanoimprint lithography using vertically aligned carbon nanostructures as stamp

Amin M Saleem (Institutionen för mikroteknologi och nanovetenskap, Bionanosystem) ; Jonas Berg ; Vincent Desmaris (Institutionen för radio- och rymdvetenskap, Avancerad mottagarutveckling) ; Mohammad Kabir
Nanotechnology Vol. 20 (2009), 37, p. 375302-375306.
[Artikel, refereegranskad vetenskaplig]

Nanoimprint lithography using vertically aligned carbon nanostructures as stamps is reported. The functionality of the stamp is demonstrated through lift-off and etch-back processes after pattern replication. The imprint process is robust and the stamp structures survived more than 50 consecutive imprints. In this paper we demonstrate this for feature sizes ranging from 80 nm to 200 μm where the aspect ratio of the individual nanostructures surpasses 1:5 with a pitch down to 100 nm. This demonstration opens up the possibility of utilizing vertically grown carbon nanostructures for manufacturing extremely high aspect ratio and small pitch stamps for nanoimprint lithography.

Den här publikationen ingår i följande styrkeområden:

Läs mer om Chalmers styrkeområden  

Denna post skapades 2014-01-09. Senast ändrad 2014-09-02.
CPL Pubid: 191897


Läs direkt!

Länk till annan sajt (kan kräva inloggning)

Institutioner (Chalmers)

Institutionen för mikroteknologi och nanovetenskap, Bionanosystem (2007-2015)
Institutionen för radio- och rymdvetenskap, Avancerad mottagarutveckling (2005-2010)


Nanovetenskap och nanoteknik

Chalmers infrastruktur