CPL - Chalmers Publication Library
| Utbildning | Forskning | Styrkeområden | Om Chalmers | In English In English Ej inloggad.

Deposition of high quality thin dielectrics on silicon

Lars-Åke Ragnarsson (Institutionen för fasta tillståndets elektronik)
Göteborg : Chalmers University of Technology, 1996. ISBN: 91-7197-396-6.- 32 s. s.

Nyckelord: remote plasma-enhanced CVD, RPECVD, deposited dielectrics, silicon dioxide, SiO2, si-SiO2, interfaces, metal-oxide-semiconductor capacitors, C-V, oxynitride, ONO, nitrided interfaces

Denna post skapades 2013-09-19.
CPL Pubid: 183621


Institutioner (Chalmers)

Institutionen för fasta tillståndets elektronik (1985-1998)



Chalmers infrastruktur

Ingår i serie

Technical report L - School of Electrical and Computer Engineering, Chalmers University of Technology. 244