CPL - Chalmers Publication Library
| Utbildning | Forskning | Styrkeområden | Om Chalmers | In English In English Ej inloggad.

Response to "Comment on a model for internal photoemission at high-k oxide silicon energy barriers, J. Appl. Phys. 112, 064115 (2012)"

Olof Engström (Institutionen för mikroteknologi och nanovetenskap, Terahertz- och millimetervågsteknik )
Journal of Applied Physics (0021-8979). Vol. 113 (2013), p. 166102.
[Artikel, refereegranskad vetenskaplig]


Denna post skapades 2013-05-29. Senast ändrad 2016-07-01.
CPL Pubid: 177655

 

Läs direkt!


Länk till annan sajt (kan kräva inloggning)