CPL - Chalmers Publication Library
| Utbildning | Forskning | Styrkeområden | Om Chalmers | In English In English Ej inloggad.

Room temperature wafer bonding using oxygen plasma treatment in reactive ion etchers with and without inductively coupled plasma

Anke Sanz-Velasco (Institutionen för mikroteknologi och nanovetenskap, Fasta tillståndets elektronik) ; Petra Amirfeiz (Institutionen för mikroteknologi och nanovetenskap, Fasta tillståndets elektronik) ; Stefan Bengtsson (Institutionen för mikroteknologi och nanovetenskap, Fasta tillståndets elektronik) ; Cindy Colinge
Journal Of The Electrochemical Society Vol. 150 (2003), 2, p. G155-G162.
[Artikel, refereegranskad vetenskaplig]


Denna post skapades 2007-01-15. Senast ändrad 2015-02-11.
CPL Pubid: 17761

 

Institutioner (Chalmers)

Institutionen för mikroteknologi och nanovetenskap, Fasta tillståndets elektronik (2003-2006)

Ämnesområden

Elektronik

Chalmers infrastruktur