CPL - Chalmers Publication Library
| Utbildning | Forskning | Styrkeområden | Om Chalmers | In English In English Ej inloggad.

Modification of silicon surfaces with H2SO4:H2O2:HF and HNO3:HF for wafer bonding applications

Karin Ljungberg ; Ulf Jansson ; Stefan Bengtsson (Institutionen för fasta tillståndets elektronik) ; Anders Soderbarg
Journal Of The Electrochemical Society Vol. 143 (1996), 5, p. 1709-1714.
[Artikel, refereegranskad vetenskaplig]


Denna post skapades 2006-09-19. Senast ändrad 2015-02-11.
CPL Pubid: 17743

 

Institutioner (Chalmers)

Institutionen för fasta tillståndets elektronik (1985-1998)

Ämnesområden

Elektronik

Chalmers infrastruktur