CPL - Chalmers Publication Library
| Utbildning | Forskning | Styrkeområden | Om Chalmers | In English In English Ej inloggad.

Internal oxidation of low dose separation by implanted oxygen wafers in different oxygen/nitrogen mixtures

Per Ericsson (Institutionen för fasta tillståndets elektronik) ; Stefan Bengtsson (Institutionen för fasta tillståndets elektronik)
Applied Physics Letters Vol. 71 (1997), 16, p. 2310-2312.
[Artikel, refereegranskad vetenskaplig]


Denna post skapades 2006-09-19. Senast ändrad 2015-02-11.
CPL Pubid: 17731

 

Institutioner (Chalmers)

Institutionen för fasta tillståndets elektronik (1985-1998)

Ämnesområden

Elektronik

Chalmers infrastruktur