CPL - Chalmers Publication Library
| Utbildning | Forskning | Styrkeområden | Om Chalmers | In English In English Ej inloggad.

Oxide Degradation Of Wafer Bonded Metal-Oxide Semiconductor Capacitors Following Fowler-Nordheim Electron Injection

Stefan Bengtsson (Institutionen för fasta tillståndets elektronik) ; Anders Jauhiainen (Institutionen för fasta tillståndets elektronik) ; Olof Engström (Institutionen för fasta tillståndets elektronik)
Journal Of The Electrochemical Society Vol. 139 (1992), 8, p. 2302-2306.
[Artikel, refereegranskad vetenskaplig]


Denna post skapades 2006-09-19. Senast ändrad 2015-02-11.
CPL Pubid: 17726

 

Institutioner (Chalmers)

Institutionen för fasta tillståndets elektronik (1985-1998)

Ämnesområden

Elektronik

Chalmers infrastruktur