CPL - Chalmers Publication Library
| Utbildning | Forskning | Styrkeområden | Om Chalmers | In English In English Ej inloggad.

Applications of aluminium nitride films deposited by reactive sputtering to silicon-on-insulator materials

Stefan Bengtsson (Extern ; Institutionen för fasta tillståndets elektronik) ; Mats Bergh (Extern ; Institutionen för fasta tillståndets elektronik) ; Manolis Choumas (Institutionen för fasta tillståndets elektronik) ; Christian Olesen (Extern ; Institutionen för fasta tillståndets elektronik) ; Kjell Jeppson (Institutionen för fasta tillståndets elektronik)
Japanese Journal Of Applied Physics Part 1-Regular Papers Short Notes & Review Papers Vol. 35 (1996), 8, p. 4175-4181.
[Artikel, refereegranskad vetenskaplig]


Denna post skapades 2006-09-19. Senast ändrad 2017-01-27.
CPL Pubid: 17720

 

Institutioner (Chalmers)

Institutionen för fasta tillståndets elektronik (1985-1998)

Ämnesområden

Elektronik

Chalmers infrastruktur