CPL - Chalmers Publication Library
| Utbildning | Forskning | Styrkeområden | Om Chalmers | In English In English Ej inloggad.

Formation of silicon structures by plasma-activated wafer bonding

Petra Amirfeiz (Institutionen för mikroelektronik, Fasta tillståndets elektronik) ; Stefan Bengtsson (Institutionen för mikroelektronik, Fasta tillståndets elektronik) ; Mats Bergh ; Ezio Zanghellini (Institutionen för experimentell fysik) ; Lars Börjesson (Institutionen för teknisk fysik)
Journal Of The Electrochemical Society Vol. 147 (2000), 7, p. 2693-2698.
[Artikel, refereegranskad vetenskaplig]


Denna post skapades 2006-09-19. Senast ändrad 2015-02-11.
CPL Pubid: 17716

 

Institutioner (Chalmers)

Institutionen för mikroelektronik, Fasta tillståndets elektronik (1997-2003)
Institutionen för experimentell fysik (1900-2005)
Institutionen för teknisk fysik (1900-2015)

Ämnesområden

Elektronik

Chalmers infrastruktur