CPL - Chalmers Publication Library
| Utbildning | Forskning | Styrkeområden | Om Chalmers | In English In English Ej inloggad.

Wafer Bonding Induced Degradation Of Thermal Silicon Dioxide Layers On Silicon

V. V. Afanasev ; Per Ericsson (Institutionen för fasta tillståndets elektronik) ; Stefan Bengtsson (Institutionen för fasta tillståndets elektronik) ; Mats O. Andersson (Institutionen för fasta tillståndets elektronik)
Applied Physics Letters Vol. 66 (1995), 13, p. 1653-1655.
[Artikel, refereegranskad vetenskaplig]


Denna post skapades 2006-09-19. Senast ändrad 2015-02-11.
CPL Pubid: 17696

 

Institutioner (Chalmers)

Institutionen för fasta tillståndets elektronik (1985-1998)

Ämnesområden

Elektronik

Chalmers infrastruktur