CPL - Chalmers Publication Library
| Utbildning | Forskning | Styrkeområden | Om Chalmers | In English In English Ej inloggad.

Electrical and structural properties of ABO3/SrTiO3 interfaces

Alexei Kalaboukhov (Institutionen för mikroteknologi och nanovetenskap, Kvantkomponentfysik) ; Tord Claeson (Institutionen för mikroteknologi och nanovetenskap, Kvantkomponentfysik) ; Pier Paolo Aurino (Institutionen för mikroteknologi och nanovetenskap, Kvantkomponentfysik) ; Robert Gunnarsson (Institutionen för mikroteknologi och nanovetenskap, Kvantkomponentfysik) ; Dag Winkler (Institutionen för mikroteknologi och nanovetenskap, Kvantkomponentfysik) ; Eva Olsson (Institutionen för teknisk fysik, Mikroskopi och mikroanalys ; Institutionen för teknisk fysik, Eva Olsson Group ) ; Nikolina Tuzla (Institutionen för teknisk fysik, Eva Olsson Group ) ; Johan Börjesson (Institutionen för teknisk fysik, Mikroskopi och mikroanalys ; Institutionen för teknisk fysik, Eva Olsson Group ) ; Yu A. Boikov ; I. T. Serenkov ; V. I. Sakharov ; M. P. Volkov
2012 MRS Spring Meeting; San Francisco, CA; United States; 9 April 2012 through 13 April 2012 (0272-9172). Vol. 1454 (2012), p. 167-172.
[Konferensbidrag, refereegranskat]

Electrical transport and microstructure of interfaces between nm-thick films of various perovskite oxides grown by pulsed laser deposition (PLD) on TiO2 terminated SrTiO3 (STO) substrates are compared. LaAlO3/STO and KTaO3/STO interfaces become quasi-2DEG after a critical film thickness of 4 unit cell layers. The conductivity survives long anneals in oxygen atmosphere. LaMnO3/STO interfaces remain insulating for all film thicknesses and NdGaO3/STO interfaces are conducting but the conductivity is eliminated after oxygen annealing. Medium-energy ion spectroscopy and scanning transmission electron microscopy detect cationic intermixing within several atomic layers from the interface in all studied interfaces. Our results indicate that the electrical reconstruction in the polar oxide interfaces is a complex combination of different mechanisms, and oxygen vacancies play an important role.



Denna post skapades 2013-01-07. Senast ändrad 2016-07-12.
CPL Pubid: 169394

 

Läs direkt!


Länk till annan sajt (kan kräva inloggning)


Institutioner (Chalmers)

Institutionen för mikroteknologi och nanovetenskap, Kvantkomponentfysik
Institutionen för teknisk fysik, Mikroskopi och mikroanalys (2005-2012)
Institutionen för teknisk fysik, Eva Olsson Group (2012-2015)

Ämnesområden

Fysik

Chalmers infrastruktur