Effect of porosity on mechanical and fracture properties of Advanced PECVD Ultralow-k SiCOH films

Författare och institution:

Chen Wu (Institutionen för mikroteknologi och nanovetenskap)

Publikationstyp:

Examensarbete på avancerad nivå

Program:

Masterarbete ()

Publiceringsår:

2012

Språk:

engelska

Ämne (baseras på Högskoleverkets indelning av forskningsämnen):

TEKNIK OCH TEKNOLOGIER ->
Elektroteknik och elektronik

Chalmers styrkeområden:

Materialvetenskap
Nanovetenskap och nanoteknik
Produktion

Ytterligare information:

Supervisor Peter Enoksson

Postens nummer:

166082

Posten skapad:

2012-11-14 16:52

Posten ändrad:

2013-04-04 09:58

Utskriftsformat