CPL - Chalmers Publication Library

Effect of porosity on mechanical and fracture properties of Advanced PECVD Ultralow-k SiCOH films

Författare och institution:
Chen Wu (Institutionen för mikroteknologi och nanovetenskap)
Publikationstyp:
Examensarbete på avancerad nivå
Program:
Masterarbete ()
Publiceringsår:
2012
Språk:
engelska
Ämne (baseras på Högskoleverkets indelning av forskningsämnen):
TEKNIK OCH TEKNOLOGIER ->
Elektroteknik och elektronik
Chalmers styrkeområden:
Materialvetenskap
Nanovetenskap och nanoteknik
Produktion
Ytterligare information:
Supervisor Peter Enoksson
Postens nummer:
166082
Posten skapad:
2012-11-14 16:52
Posten ändrad:
2013-04-04 09:58

Visa i Endnote-format