CPL - Chalmers Publication Library
| Utbildning | Forskning | Styrkeområden | Om Chalmers | In English In English Ej inloggad.

Effect of porosity on mechanical and fracture properties of Advanced PECVD Ultralow-k SiCOH films

Chen Wu (Institutionen för mikroteknologi och nanovetenskap)
(2012)
[Examensarbete på avancerad nivå]

Supervisor Peter Enoksson



Den här publikationen ingår i följande styrkeområden:

Läs mer om Chalmers styrkeområden  

Denna post skapades 2012-11-14. Senast ändrad 2013-04-04.
CPL Pubid: 166082