CPL - Chalmers Publication Library
| Utbildning | Forskning | Styrkeområden | Om Chalmers | In English In English Ej inloggad.

HSQ application for sub-10nm scale lithography.

Piotr Jedrasik (Institutionen för mikroteknologi och nanovetenskap, MC2 process laboratorium)
Nano and Giga Challenges in Microelectronics, proceedings (2004)
[Konferensbidrag, övrigt]

An application of hydrogen silsesquioxane (HSQ) negative tone electron beam resist for a sub-10 nanometer scale fabrication is reported.

Nyckelord: Electron beam nanolithography, neuromorphic networks

Denna post skapades 2006-08-29.
CPL Pubid: 16605


Institutioner (Chalmers)

Institutionen för mikroteknologi och nanovetenskap, MC2 process laboratorium (2003-2005)


Övrig elektroteknik, elektronik och fotonik

Chalmers infrastruktur