CPL - Chalmers Publication Library
| Utbildning | Forskning | Styrkeområden | Om Chalmers | In English In English Ej inloggad.

The Adsorption and Reaction of H2 and D2 on a Ni/SiO2 Catalyst

Claes Niklasson (Institutionen för kemisk reaktionsteknik) ; Bengt Andersson (Institutionen för kemisk reaktionsteknik)
Ind. Chem Eng Res Vol. 27 (1988), p. 1370-1378.
[Artikel, refereegranskad vetenskaplig]


Denna post skapades 2012-06-29.
CPL Pubid: 159796

 

Institutioner (Chalmers)

Institutionen för kemisk reaktionsteknik (1972-2001)

Ämnesområden

Kemiteknik

Chalmers infrastruktur