CPL - Chalmers Publication Library
| Utbildning | Forskning | Styrkeområden | Om Chalmers | In English In English Ej inloggad.

Cleaning graphene using atomic force microscope

Niclas Lindvall (Institutionen för mikroteknologi och nanovetenskap, Kvantkomponentfysik) ; Alexei Kalaboukhov (Institutionen för mikroteknologi och nanovetenskap, Kvantkomponentfysik) ; Avgust Yurgens (Institutionen för mikroteknologi och nanovetenskap, Kvantkomponentfysik)
Journal of Applied Physics (0021-8979). Vol. 111 (2012), 6, p. Article Number: 064904.
[Artikel, refereegranskad vetenskaplig]

We mechanically clean graphene devices using an atomic force microscope (AFM). By scanning an AFM tip in contact mode in a broom-like way over the sample, resist residues are pushed away from the desired area. We obtain atomically flat graphene with a root mean square (rms) roughness as low as 0.12 nm after this procedure. The cleaning also results in a shift of the charge-neutrality point toward zero gate voltage, as well as an increase in charge carrier mobility.

Nyckelord: suspended graphene, layer graphene, transport, films, sio2



Den här publikationen ingår i följande styrkeområden:

Läs mer om Chalmers styrkeområden  

Denna post skapades 2012-05-24. Senast ändrad 2015-07-02.
CPL Pubid: 158011

 

Läs direkt!

Lokal fulltext (fritt tillgänglig)

Länk till annan sajt (kan kräva inloggning)