CPL - Chalmers Publication Library
| Utbildning | Forskning | Styrkeområden | Om Chalmers | In English In English Ej inloggad.

Deep wet etching of borosilicate glass using an anodically bonded silicon substrate as mask

Thierry Corman ; Peter Enoksson (Institutionen för mikroelektronik) ; Göran Stemme
The 8th Micromechanics Europe Workshop (MME'97), Sept. 1-2, Southampton, England (1997)
[Konferensbidrag, refereegranskat]


Den här publikationen ingår i följande styrkeområden:

Läs mer om Chalmers styrkeområden  

Denna post skapades 2012-01-31.
CPL Pubid: 154647

 

Institutioner (Chalmers)

Institutionen för mikroelektronik (1995-2003)

Ämnesområden

Materialvetenskap
Nanovetenskap och nanoteknik
Produktion
Elektroteknik och elektronik
Kemiteknik
Materialteknik
Teknisk fysik

Chalmers infrastruktur