CPL - Chalmers Publication Library
| Utbildning | Forskning | Styrkeområden | Om Chalmers | In English In English Ej inloggad.

Deep wet etching of borosilicate glass using an anodically bonded silicon substrate as mask

Thierry Corman ; Peter Enoksson (Institutionen för mikroelektronik) ; Göran Stemme
Journal of Micromechanics and Microengineering, 8 p. 84-87. (1998)
[Artikel, refereegranskad vetenskaplig]


Den här publikationen ingår i följande styrkeområden:

Läs mer om Chalmers styrkeområden  

Denna post skapades 2012-01-19.
CPL Pubid: 153954

 

Institutioner (Chalmers)

Institutionen för mikroelektronik (1995-2003)

Ämnesområden

Materialvetenskap
Nanovetenskap och nanoteknik
Produktion
Elektroteknik och elektronik
Kemiteknik
Teknisk fysik

Chalmers infrastruktur