CPL - Chalmers Publication Library
| Utbildning | Forskning | Styrkeområden | Om Chalmers | In English In English Ej inloggad.

Multilevel phase holograms manufactured by electron-beam lithography

Mats Ekberg (Institutionen för tillämpad elektron fysik) ; J. Michael Larsson (Institutionen för tillämpad elektron fysik) ; Sverker Hård (Institutionen för mikroelektronik och nanovetenskap) ; Bengt Nilsson (Institutionen för fysik)
Optics Letters (0146-9592). Vol. 15 (1990), p. 568-569.
[Artikel, refereegranskad vetenskaplig]

Ten-level transmission phase holograms (kinoforms) manufactured in one resist layer by electron-beam lithography are reported for the first time to the authors' knowledge. The measured hologram diffraction efficiencies were 70% for the two resist materials used. This corresponds to 82% of the maximum theoretical value for these holograms and is, to the authors' knowledge, the highest reported to date

Nyckelord: electron beam lithography, holography



Denna post skapades 2011-10-21. Senast ändrad 2011-11-02.
CPL Pubid: 147578

 

Läs direkt!


Länk till annan sajt (kan kräva inloggning)


Institutioner (Chalmers)

Institutionen för tillämpad elektron fysik (1900-2003)
Institutionen för mikroelektronik och nanovetenskap (1900-2003)
Institutionen för fysik (1900-2003)

Ämnesområden

Informations- och kommunikationsteknik
Nanovetenskap och nanoteknik
Övrig elektroteknik, elektronik och fotonik

Chalmers infrastruktur