CPL - Chalmers Publication Library
| Utbildning | Forskning | Styrkeområden | Om Chalmers | In English In English Ej inloggad.

Application of calixarene for nanometer magnetic particle fabrication

Piotr Jedrasik (Institutionen för mikroelektronik och nanovetenskap) ; Maj Hanson (Institutionen för experimentell fysik, Fasta tillståndets fysik) ; Bengt Nilsson (Institutionen för mikroelektronik och nanovetenskap)
Microelectronic Engineering (0167-9317). Vol. 53 (2000), p. 497-500.
[Konferensbidrag, refereegranskat]

An application of the negative tone electron beam resist Calixarene for fabrication of nanometer magnetic particles is reported. Thorough resist characterisation is performed. Proximity tests for characterization of the intraproximity behaviour of the resist on the tested substrate is investigated to compensate for modulation of lateral dimensions due to electron scattering. Magnetic particles were fabricated by a combination of EBL and ion beam milling using Calixarene as a transfer layer down to Fe. We fabricated arrays of circular particles with characteristic dimensions down to 40 nm. Initial results of topographic and magnetic force microscopy are reported

Nyckelord: arrays, atomic force microscopy, electron resists, ferromagnetic materials, iron, magnetic force microscopy, magnetic particles, nanostructured materials, nanotechnology, particle size, proximity effect (lithography), sputter etching, surface topography

Den här publikationen ingår i följande styrkeområden:

Läs mer om Chalmers styrkeområden  

Denna post skapades 2011-10-21. Senast ändrad 2015-10-22.
CPL Pubid: 147565


Läs direkt!

Länk till annan sajt (kan kräva inloggning)

Institutioner (Chalmers)

Institutionen för mikroelektronik och nanovetenskap (1900-2003)
Institutionen för experimentell fysik, Fasta tillståndets fysik (1997-2004)


Nanovetenskap och nanoteknik
Mesoskopisk fysik

Chalmers infrastruktur