CPL - Chalmers Publication Library
| Utbildning | Forskning | Styrkeområden | Om Chalmers | In English In English Ej inloggad.

Fabrication of nanoscale electrostatic lenses

Ihab Sinno (Institutionen för mikroteknologi och nanovetenskap) ; Anke Sanz-Velasco (Institutionen för mikroteknologi och nanovetenskap, Bionanosystem) ; S. Kang ; H. Jansen ; Eva Olsson (Institutionen för teknisk fysik, Mikroskopi och mikroanalys) ; Peter Enoksson (Institutionen för mikroteknologi och nanovetenskap, Bionanosystem) ; K. Svensson
Journal of Micromechanics and Microengineering (0960-1317). Vol. 20 (2010), 9,
[Artikel, refereegranskad vetenskaplig]

The fabrication of cylindrical multi-element electrostatic lenses at the nanoscale presents a challenge; they are high-aspect-ratio structures that should be rotationally symmetric, well aligned and freestanding, with smooth edges and flat, clean surfaces. In this paper, we present the fabrication results of a non-conventional process, which uses a combination of focused gallium ion-beam milling and hydrofluoric acid vapor etching. This process makes it possible to fabricate nanoscale electrostatic lenses down to 140 nm in aperture diameter and 4.2 mu m in column length, with a superior control of the geometry as compared to conventional lithography-based techniques.

Nyckelord: objective lens, systems, field, microscope

Den här publikationen ingår i följande styrkeområden:

Läs mer om Chalmers styrkeområden  

Denna post skapades 2010-09-20. Senast ändrad 2014-11-27.
CPL Pubid: 126589


Läs direkt!

Länk till annan sajt (kan kräva inloggning)

Institutioner (Chalmers)

Institutionen för mikroteknologi och nanovetenskap
Institutionen för mikroteknologi och nanovetenskap, Bionanosystem (2007-2015)
Institutionen för teknisk fysik, Mikroskopi och mikroanalys (2005-2012)


Elektroteknik och elektronik

Chalmers infrastruktur