CPL - Chalmers Publication Library
| Utbildning | Forskning | Styrkeområden | Om Chalmers | In English In English Ej inloggad.

Capture cross sections for holes at LaLuO/Si interfaces

Olof Engström (Institutionen för mikroteknologi och nanovetenskap, Fysikalisk elektronik) ; F Ducroquet ; Bahman Raeissi (Institutionen för mikroteknologi och nanovetenskap) ; J. Schubert ; J.M.J Lopes ; H. D. B. Gottlob
Proceedings of the 16th Workshop on Dielectrics in Microelectronics, p. 29, Bratislava, June 28 - 30 2010 (2010)
[Konferensbidrag, refereegranskat]


Denna post skapades 2010-08-04. Senast ändrad 2012-03-05.
CPL Pubid: 124120

 

Institutioner (Chalmers)

Institutionen för mikroteknologi och nanovetenskap, Fysikalisk elektronik (2007-2010)
Institutionen för mikroteknologi och nanovetenskap

Ämnesområden

Materialfysik med ytfysik

Chalmers infrastruktur