CPL - Chalmers Publication Library
| Utbildning | Forskning | Styrkeområden | Om Chalmers | In English In English Ej inloggad.

HIGH ROBUSTNESS GAN HEMT SUBJECT TO REVERSE BIAS STRESS

A. Stucco ; A. Ronchi ; A. Chini ; Per-Åke Nilsson (Institutionen för mikroteknologi och nanovetenskap, Mikrovågselektronik) ; G. Meneghesso ; E. Zanoni
Wocsdice 2010 (2010)
[Konferensbidrag, refereegranskat]


Denna post skapades 2010-06-18.
CPL Pubid: 122948