CPL - Chalmers Publication Library
| Utbildning | Forskning | Styrkeområden | Om Chalmers | In English In English Ej inloggad.

The microstructure of CVD κ-Al2O3 multilayers separated by thin intermediate TiN or TiC layers

Mats Halvarsson (Institutionen för teknisk fysik, Mikroskopi och mikroanalys) ; Jessika Trancik ; Sakari Ruppi
International Journal of Refractory Metals & Hard Materials Vol. 24 (2006), p. 32-38.
[Artikel, refereegranskad vetenskaplig]


Denna post skapades 2006-08-25.
CPL Pubid: 11848

 

Institutioner (Chalmers)

Institutionen för teknisk fysik, Mikroskopi och mikroanalys (2005-2012)

Ämnesområden

Materialteknik

Chalmers infrastruktur