CPL - Chalmers Publication Library
| Utbildning | Forskning | Styrkeområden | Om Chalmers | In English In English Ej inloggad.

Direct Photolithographic Patterning of Electrospun Films for Defined Nanofibrillar Microarchitectures

Björn Carlberg (Institutionen för mikroteknologi och nanovetenskap, Bionanosystem) ; Teng Wang (Institutionen för mikroteknologi och nanovetenskap, Bionanosystem) ; Johan Liu (Institutionen för mikroteknologi och nanovetenskap, Bionanosystem)
Langmuir (0743-7463). Vol. 26 (2010), 4, p. 2235-2239.
[Artikel, refereegranskad vetenskaplig]

In this letter, a method of generating spatially defined electrospun microarchitectures by direct photolithographic patterning of electrospun Films is described, A photoinitiator, benzoin methyl ether, is incorporated into a solid thermoplastic electrospun polyurethane matrix selectively photo-cross-linked by standard photolithographic methods. Subsequent development in in organic solvent yields spatially defined electrospun microstructures oil a single substrate. Utilizing a multilayer approach, the method allows for the assembly of complex hierarchical electrospun structures on single substrates using methods analogous to the conventional microfabrication of solid-state devices.

Nyckelord: nanofibers, microfabrication, nanoparticles, deposition, membranes, scaffolds, fibers



Den här publikationen ingår i följande styrkeområden:

Läs mer om Chalmers styrkeområden  

Denna post skapades 2010-02-23. Senast ändrad 2011-01-10.
CPL Pubid: 114108

 

Läs direkt!


Länk till annan sajt (kan kräva inloggning)


Institutioner (Chalmers)

Institutionen för mikroteknologi och nanovetenskap, Bionanosystem (2007-2015)

Ämnesområden

Materialvetenskap
Nanovetenskap och nanoteknik
Fysik
Biofysikalisk kemi

Chalmers infrastruktur