CPL - Chalmers Publication Library
| Utbildning | Forskning | Styrkeområden | Om Chalmers | In English In English Ej inloggad.

Application of ARXPS for characterisation of SiC/Ni2Si Thin Film Systems

Sergio Alfonso Garcia Perez (Institutionen för material- och tillverkningsteknik, Yt- och mikrostrukturteknik) ; Lars Nyborg (Institutionen för material- och tillverkningsteknik, Yt- och mikrostrukturteknik)
ECASIA 2005, Surface and Interface Analysis special edition (2006)
[Artikel, refereegranskad vetenskaplig]

Nyckelord: XPS, agle-resolved analysis, SiC/Ni2Si, thin film systems



Denna post skapades 2006-09-12.
CPL Pubid: 10932

 

Institutioner (Chalmers)

Institutionen för material- och tillverkningsteknik, Yt- och mikrostrukturteknik (2005-2017)

Ämnesområden

Materialteknik

Chalmers infrastruktur